測(cè)量系統(tǒng)

5.1 測(cè)量系統(tǒng)組成

5.1.1 氡及其子體個(gè)人劑量測(cè)量系統(tǒng)主要由氡個(gè)人劑量計(jì)、化學(xué)蝕刻裝置和徑跡讀出系統(tǒng)組成。

5.1.2 氡個(gè)人劑量計(jì)的氡收集杯（盒）材質(zhì)應(yīng)采用導(dǎo)電塑料，留出適宜尺寸的氡收集腔室，并在外側(cè)設(shè)置佩帶針（夾），便于佩戴使用。

5.1.3 化學(xué)蝕刻裝置由恒溫水浴箱、溫控系統(tǒng)、蝕刻架和蝕刻架容器等組成。

5.1.4 徑跡讀出系統(tǒng)由光學(xué)顯微鏡及適配的圖像分析系統(tǒng)組成。

5.2 測(cè)量系統(tǒng)性能要求

5.2.1 在連續(xù)三個(gè)月的使用條件下，氡個(gè)人劑量計(jì)的可探測(cè)范圍應(yīng)能覆蓋平均氡濃度在50 Bq?m-3～10 000 Bq?m-3之間。

5.2.2 氡個(gè)人劑量計(jì)應(yīng)具有防水功能，并能阻止空氣中粉塵和氡子體進(jìn)入劑量計(jì)內(nèi)。

5.2.3 化學(xué)蝕刻過程中應(yīng)保持蝕刻液溫度和濃度的相對(duì)恒定，溫度范圍為60 ℃～80 ℃，相對(duì)偏差為±1 ℃。蝕刻條件需經(jīng)優(yōu)化，通?？刹捎谜粚?shí)驗(yàn)法確定蝕刻劑的濃度、蝕刻時(shí)間和蝕刻溫度等關(guān)鍵參數(shù)。對(duì)于CR-39元件，10 h蝕刻，蝕刻溫度為70 ℃，或6.5 mol?L-1 氫氧化鉀（KOH）水溶液，7 h蝕刻，蝕刻溫度為70 ℃。

5.2.4因跡密度標(biāo)準(zhǔn)偏差與測(cè)讀面積及總徑跡計(jì)數(shù)相關(guān)，實(shí)際測(cè)讀的有效面積應(yīng)不少于0.2 cm2，并要求讀出系統(tǒng)可對(duì)10 trs?cm-2～104 trs?cm-2的總徑跡數(shù)進(jìn)行準(zhǔn)確的定量分析。

5.2.5 測(cè)量系統(tǒng)應(yīng)經(jīng)有相應(yīng)授權(quán)的計(jì)量部門檢定或校準(zhǔn)。

5.2.6 實(shí)驗(yàn)室人員的技術(shù)差異將引入測(cè)量差異。如采用人工測(cè)讀方式，對(duì)于同一組樣品，應(yīng)由不同人員進(jìn)行重復(fù)檢測(cè)，提高測(cè)讀準(zhǔn)確率，重復(fù)檢查量應(yīng)不小于5%，控制測(cè)讀引入的相對(duì)偏差小于20%。

5.2.7 應(yīng)給出采用本標(biāo)準(zhǔn)固體核徑跡測(cè)量方法探測(cè)限的估計(jì)。